从精致小巧的智能手表，到性能强劲的超级计算机，芯片如同跳动的心脏，驱动着科技的每一次进步，它看似微不足道，却掌控着信息时代的脉搏，而在这方寸之间，蕴藏着人类智慧的结晶，也浓缩着无数科研人员的心血，而要制造出这些精密的芯片，离不开一项关键技术——光刻，如果将芯片制造比作建造一座宏伟的城市，那么光刻机就是那支精密的刻刀，在纳米级的尺度上雕琢着电路的纹理。
据媒体报道，上海微电子装备股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机，虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机的飞跃进步，在逐渐减少与荷兰ASML公司差距。
据媒体报道，上海微电子装备股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机，虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机的飞跃进步，在逐渐减少与荷兰ASML公司差距。
近日，根据上海微电子装备集团发布的最新消息，该集团已正式推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据悉，新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用，满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。
【文/观察者网 吕栋】 12月5日，台湾《经济日报》和联合新闻网同时发布报道称，11月26日在青岛正式投产的富士康集团首座晶圆级封测厂，引进多达46台上海微电子生产的光刻机，并同时称这意味着大陆生产的光刻机实现从90nm到28nm的跨越。
