全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
编者按:工业和信息化部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录》中，赫然列入了国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机，这一消息迅速引发关注，将国产光刻机技术推至聚光灯下，65nm，这串数字背后蕴藏着怎样的突破?
在阅读此文之前，麻烦您点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持。文|科技探索先锋编辑|科技探索先锋导语在近年来的科技舞台上，光刻机的名字频频被提及，成为了全球科技竞争的焦点。
光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
