导语:2024年版《首台重大技术装备推广应用指导目录》的发布意味着国产光刻机取得了重大进展，目录中重点介绍了我国制造的氟化氪和氟化氩光刻机，而两者之间的不同使其在对标荷兰ASML厂商的EUV光刻机上并无直接联系。
科技浩瀚海洋中，每一次技术突破都像是一颗璀璨珍珠，让人们为之惊叹，我国工信部官方宣布，国内科研团队自主研发高端光刻机技术已经取得重大进展，这不仅是我国科技实力一个重要展示，更是推动半导体产业自主可控关键一步。
##记录我的9月生活#逆风飞扬：中国芯的自立自强之路芯片禁令就像一块大石头，压在咱们科技进步的路上，压力可不小。老美联合荷兰，对中国半导体产业的围堵封锁越来越过分，前段时间更是不讲武德，直接把部分机器的维修零件和软件更新都给禁了。这分明是要掐断中国芯片的未来。这口气，我们能忍？
然而，随着2024年9月工信部发布的一份文件，将国产光刻机再次推入了公众视野，特别是其中提到的氟化氩光刻机，其技术指标显示分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，这一消息无疑为国产光刻机的发展注入了一剂强心针。
阅读此文前，诚邀您点击一下“关注”按钮，方便以后第一时间为您推送新的文章，同时也便于您进行讨论与分享，您的支持是我坚持创作的动力~文|硬核科普家编辑|硬核科普家《——【·前言·】——》在全球芯片产业的激烈竞争中，光刻机一直被视为最核心、最复杂的技术壁垒。
工信部的一份文件，将国产光刻机研发再度推入公众的视线。尽管上证指数在过去一周承压，但A股的光刻机板块上涨了近5%，成为近期表现比较亮眼的一个板块。仅9月18日当天，光刻机概念板块就上涨了5.35%，领涨A股所有概念板块。
在芯片制造的世界里，有一个“大块头”一直是中国科技界的心头痛，它就是光刻机，被誉为“芯片之母”。根据工信部宣布，国产氟化氩光刻机已经问世，这似乎意味着我们终于可以摆脱“卡脖子”的困境了，但事情似乎没那么简单，国产光刻机真的能与ASML的一较高下吗?
文中加入5秒广告解锁，观看5秒后便可免费阅读全文啦，感谢各位观众老爷的理解与支持文|沈言论文章由沈言论头条原创首发，请勿抄袭转载前段时间，工信部官宣了中国光刻机取得了重大进展。其中主要还是技术层面的突破、核心部件的制造，以及拥有完整的知识产权。
本文内容均是根据权威资料结合个人观点撰写的原创内容，在今日头条全网首发72小时，感谢各位看官点击支持原创，文末已标注文献来源，请知悉。中国光刻机技术的重大突破，让人不禁想起那句老话:“人生就像一部电影，总有那么几个高光时刻。”
