导语:2024年版《首台重大技术装备推广应用指导目录》的发布意味着国产光刻机取得了重大进展,目录中重点介绍了我国制造的氟化氪和氟化氩光刻机,而两者之间的不同使其在对标荷兰ASML厂商的EUV光刻机上并无直接联系。
科技浩瀚海洋中,每一次技术突破都像是一颗璀璨珍珠,让人们为之惊叹,我国工信部官方宣布,国内科研团队自主研发高端光刻机技术已经取得重大进展,这不仅是我国科技实力一个重要展示,更是推动半导体产业自主可控关键一步。
##记录我的9月生活#逆风飞扬:中国芯的自立自强之路芯片禁令就像一块大石头,压在咱们科技进步的路上,压力可不小。老美联合荷兰,对中国半导体产业的围堵封锁越来越过分,前段时间更是不讲武德,直接把部分机器的维修零件和软件更新都给禁了。这分明是要掐断中国芯片的未来。这口气,我们能忍?
然而,随着2024年9月工信部发布的一份文件,将国产光刻机再次推入了公众视野,特别是其中提到的氟化氩光刻机,其技术指标显示分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm,这一消息无疑为国产光刻机的发展注入了一剂强心针。
阅读此文前,诚邀您点击一下“关注”按钮,方便以后第一时间为您推送新的文章,同时也便于您进行讨论与分享,您的支持是我坚持创作的动力~文|硬核科普家编辑|硬核科普家《——【·前言·】——》在全球芯片产业的激烈竞争中,光刻机一直被视为最核心、最复杂的技术壁垒。
工信部的一份文件,将国产光刻机研发再度推入公众的视线。尽管上证指数在过去一周承压,但A股的光刻机板块上涨了近5%,成为近期表现比较亮眼的一个板块。仅9月18日当天,光刻机概念板块就上涨了5.35%,领涨A股所有概念板块。
在芯片制造的世界里,有一个“大块头”一直是中国科技界的心头痛,它就是光刻机,被誉为“芯片之母”。根据工信部宣布,国产氟化氩光刻机已经问世,这似乎意味着我们终于可以摆脱“卡脖子”的困境了,但事情似乎没那么简单,国产光刻机真的能与ASML的一较高下吗?
文中加入5秒广告解锁,观看5秒后便可免费阅读全文啦,感谢各位观众老爷的理解与支持文|沈言论文章由沈言论头条原创首发,请勿抄袭转载前段时间,工信部官宣了中国光刻机取得了重大进展。其中主要还是技术层面的突破、核心部件的制造,以及拥有完整的知识产权。
本文内容均是根据权威资料结合个人观点撰写的原创内容,在今日头条全网首发72小时,感谢各位看官点击支持原创,文末已标注文献来源,请知悉。中国光刻机技术的重大突破,让人不禁想起那句老话:“人生就像一部电影,总有那么几个高光时刻。”