前几天，我们国家工信部才刚刚官宣了我国自主知识产权的国产氟化氩光刻机，这不，紧随其后，我国国家知识产权局，紧接着就又曝光了我国一项与EUV光刻机直接相关的重要发明专利——“极紫外辐射发生装置及光刻设备”发明专利。
也许你现在用的电脑，所用芯片的工艺还是14纳米，但是现在的芯片制造工艺，已经推进到了3纳米。而且，芯片工艺的推进速度，还没有看到减慢的迹象，例如台积电近日就宣布，其3纳米研发团队，开始向1.4纳米进发。
我国光刻机一项核心技术已实现重大突破，这一突破，有望在光刻机技术上打破荷兰的垄断!此前《一网荷兰》曾发文称，光刻机设备供应商ASML在举行电话会议时，其总裁Peter Wennink在会议上明确表示:高端的极紫光光刻机永远不可能被中国模仿，况且中国在知识产权领域有良好的规定。
一直以来，光刻机是许多国人非常关注的话题，在中国关于光刻机的消息更是层出不穷，不管是与此相关的清华0.1nm技术也好，还是国内曝光的光刻厂技术也罢，都是咱们普通人无法理解的技术，可是如今好消息来了，中国光刻机不仅取得重大突破，而且此次技术还通俗易懂。
