导语:2024年版《首台重大技术装备推广应用指导目录》的发布意味着国产光刻机取得了重大进展，目录中重点介绍了我国制造的氟化氪和氟化氩光刻机，而两者之间的不同使其在对标荷兰ASML厂商的EUV光刻机上并无直接联系。
##记录我的9月生活#逆风飞扬：中国芯的自立自强之路芯片禁令就像一块大石头，压在咱们科技进步的路上，压力可不小。老美联合荷兰，对中国半导体产业的围堵封锁越来越过分，前段时间更是不讲武德，直接把部分机器的维修零件和软件更新都给禁了。这分明是要掐断中国芯片的未来。这口气，我们能忍？
文 | 孙永杰日前，工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下简称“目录”）中显示，中国已攻克氟化氩光刻机，其中该目录中，公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm指标引发了业内的关注。
国产高端EUV光刻机的最新消息，目前在外网吵得的一片火热，很多国外的博主和媒体纷纷报道了国产高端EUV光刻机的最新进度，特别是国产高端EUV光刻机所采用的“激光诱导放电等离子体”技术路线，完全摆脱了ASML的激光等离子体技术路线。
如果看待2021.01.17日的热搜“国产光刻机今年要下线了”，据热搜消息。上海微电子、长春光机所之后，中电科入局光刻机产业。不出意外，今年就能见到国产光刻机了。国产光刻机今年真的能下线吗？与ASML的差距有多大？如果今年真的能下线，意味着什么？
