中国光刻机光源突破

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哈工大搞定13.5纳米极紫外光源！中国突破光刻机封锁，还有多远？
哈工大已经官宣，成功搞定了13.5纳米极紫外光源。很多人不理解，为什么荷兰阿斯麦要服从美国的封锁令?
一林简史
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EUV光刻机事件反转？哈工大突破极紫外光源技术引外媒惊呼
近日，一则关于中国哈尔滨工业大学在极紫外光刻机光源技术方面取得重大突破的消息，不仅在国内科技界掀起了波澜，也让众多外媒纷纷侧目，甚至有人断言，EUV光刻机事件或许即将迎来反转。
离垢随笔
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中国芯突围！哈工大EUV光源技术突破，ASML垄断地位要凉？
哈尔滨工业大学在EUV光刻机的核心部件——极紫外光源技术上取得了重大突破!那么，哈工大的这项技术究竟有多厉害?
这个宇宙
国内光刻机的发展现状浅析
光刻机的重要性:光刻机是芯片制造的核心设备，其精度直接决定芯片的制程水平。全球最先进的EUV光刻机由荷兰ASML垄断，而国内目前聚焦于突破DUV光刻机技术。
兔酱耶
赵永蓬教授团队：中国光刻机光源技术的领军者
在当今科技飞速发展的时代，半导体芯片宛如现代工业的 “粮食”，广泛渗透到从智能手机、电脑、汽车，再到人工智能、物联网等各个领域，成为推动科技进步与社会发展的核心驱动力。
聪颖星辰牛叔
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国产光刻机：砥砺前行，突破重围
然而，近年来，国产光刻机在重重困难下砥砺前行，取得了一系列令人瞩目的进展，逐步缩小与国际先进水平的差距。2024 年，工信部印发的《首台重大技术装备推广应用指导目录》带来了振奋人心的消息。
东北小昊哥游戏帝国
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2025年中国光刻机发展展望研究分析报告
光刻机作为制造芯片的核心装备，在半导体产业中占据着举足轻重的地位。对于中国而言，光刻机技术的突破与发展不仅是提升半导体产业竞争力的关键，更是实现科技自立自强、保障国家信息安全的重要支撑。
多情剑客老李飞刀

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