分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标,其中,分辨率直接决定制程,极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求,是光刻机最重要的指标,而套刻精度影响良率,产率影响光刻机的产能及经济性,此外,多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程,应用较为广泛。
在阅读此文之前,麻烦您点击一下“关注”,既方便您进行讨论和分享,又能给您带来不一样的参与感,感谢您的支持。文|竹芯识百科编辑|竹芯识百科导语光刻机可谓是半导体制造业中的“钥匙”,只有这把“钥匙”才能打开炙手可热的半导体产业。然而,近十年来,我国一直苦于没有这样一把钥匙。
1 光刻机是半导体核心设备,目前主流光刻机分为 i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大类。一般芯片在生 产中需进行 20-30 次光刻,耗时占 IC 生产环节 50%左右,占芯片生产成本的 1/3。