近年来，特别是2019年以来，荷兰政府等西方国家开始加强对向中国出口高端光刻机的限制。2021年1月，荷兰政府要求ASML停止向中国出口其最新的DUV光刻机。2024年，ASML被进一步限制，不得向中国发运NXT:2000i及以上分辨率的浸润式DUV光刻机。
而历史却是个“老司机”，会在不经意间急转弯，冲上“秋名山”。而贯彻这一策略的“光刻机科技”便又一次在历史上给中国“上了一课”:以下来自文献记载:1977年研制成功的GK-3型半自动光刻机，这类设备通过物理接触掩模与晶圆完成曝光，虽能实现微米级精度，但存在掩模易损耗、良率低等问题。
从精致小巧的智能手表，到性能强劲的超级计算机，芯片如同跳动的心脏，驱动着科技的每一次进步，它看似微不足道，却掌控着信息时代的脉搏，而在这方寸之间，蕴藏着人类智慧的结晶，也浓缩着无数科研人员的心血，而要制造出这些精密的芯片，离不开一项关键技术——光刻，如果将芯片制造比作建造一座宏伟的城市，那么光刻机就是那支精密的刻刀，在纳米级的尺度上雕琢着电路的纹理。
