如今，芯片已进入了人类现代社会的方方面面，大到飞机舰船、卫星火箭，小到人们手中的手机、“随身听”，都离不开芯片。随着以美国为首的国家对华为公司的打压，“光刻机”成了网络热搜词，谈论光刻机的文章铺天盖地。
近日，有自媒体宣称，中国提出了另外一种EUV光刻机方案，把光刻机 " 巨大化 "，用一台周长 100~150 米的环形加速器作为 " 光源 "，然后带动数台甚至数十台光刻机进行工作，这不是光刻机，这是 " 光刻车间 "、" 芯片加工流水线 "。
1956年全国召开知识分子问题会议，主席提出向科学进军的号召，成立国家科学规划委员会，制定了“十二年科技规划”，并确定以下紧急措施:即大力发展计算技术、无线电电子学、半导体技术、自动学和远距离操纵技术。
视频请见下面链接:封锁、逆境、曙光:国产光刻机的艰难往事【揭秘世界28】面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的。
光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
半导体产业作为全球的高端技术产业是中国重点发展的支柱型产业之一，虽然在我国起步晚，起点低，但上世纪五十年代周恩来在领导制定我国《1956-1967年科学技术发展远景规划》时，就将半导体技术和其他三项技术列入四项“紧急措施”。
