哈工大光刻机有多大体积

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哈工大EUV光刻机技术取得重大突破
哈尔滨工业大学科研团队在极紫外光刻机技术领域取得了历史性的突破。EUV光刻机是制造7纳米及以下高端芯片的核心设备，而极紫外光源则是其中的核心部件。
军迷
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哈工大EUV光刻机突破！新加坡学者：只要成功，芯片战就会结束
近期一位新加坡知名投资专家说出了颠覆性言论，他认为中芯国际必将追上台积电。新加坡毕盛资产管理的王国辉，在彭博电视台接受专访时，抛出了一个极具震撼力的观点。
青橘罐头
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哈工大立功了！欧洲光刻巨头突然宣布，外媒：大势已定
中国芯片:冲破封锁，逆袭之路。芯片这玩意儿，别看它个头小，却像个“幕后大boss”，掌控着现代科技的方方面面。
冬歌吃不胖
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我哈威武，哈工大官宣搞定13.5nm极紫外光源，EUV光刻机迎来曙光
制造芯片需要光刻机，芯片制程越先进，对光刻机性能要求越高，其光刻机的制造难度也就越高。它有EUV与DUV之分，其中EUV光刻机制造技术要求很高，是我们的技术短板。
啊海谈教育
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中国芯突围！哈工大EUV光源技术突破，ASML垄断地位要凉？
哈尔滨工业大学在EUV光刻机的核心部件——极紫外光源技术上取得了重大突破!那么，哈工大的这项技术究竟有多厉害?
这个宇宙
哈工大的曙光让ASML沉默，中芯国际等一台国产EUV
近日，哈尔滨工业大学在光刻机方面取得了研究新突破，他们研发出了一台13.5纳米的极紫外光源，从而标志着国内EUV光刻机的研制又更进了一步。
船长
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13.5纳米极紫外光源：哈工大的突破与中芯国际的未来
近年来，随着科技的飞速发展，半导体产业的竞争愈发激烈，而光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备，其技术水平直接影响到芯片的生产效率和成品率。
细嗅蔷薇
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哈工大公布关键消息，ASML猝不及防，外媒：基本挡不住了
尤其是麒麟9020芯片，据说只有7nm工艺，可它的实际性能表现却丝毫不比采用台积电4nm工艺的高通骁龙8+逊色。
小笛谈科技
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外媒报道：EUV光刻机事件反转，荷兰决定隐藏ASML对华销售情况
近年来，半导体领域格局风云变幻，中国在EUV光刻机技术上的突破与荷兰对ASML对华销售政策的调整，成为全球瞩目的焦点。
老叶热评
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哈工大“突破”国产7nm光刻机关键技术,现在该“着急”的是欧美？
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