【日本首台ASML EUV光刻机下月中旬运抵 用于Rapidus晶圆厂试产】《科创板日报》15日讯，日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。
据日经亚洲12月19日报道，Rapidus成为日本首家获得极紫外（EUV）光刻设备的半导体公司，已经开始在位于北海道正在建设的“IIM-1”芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。12月14日，荷兰供应商ASML生产的极紫外光刻系统（EUV）的第一批部件抵达机场。
