阅读此文前，麻烦您点击一下“关注”，既方便您进行讨论与分享，又给您带来不一样的参与感，感谢您的支持。综述中国在很多高科技领域已经取得了巨大的进展，但有一个领域，咱们国家却始终难以突破，那就是高端光刻机。这里说的不是普通的光刻机，而是那些掌握在极少数国家手中的高端光刻机。
前沿:随着国家大基金三期成立，我们国产替代的浪潮再次加速推进，光刻机作为我国国产替代中的重要一环，这次将成为投资的新热点。光刻机光刻机，在半导体行业领域被称为“芯片之母”，也是制造芯片中非常关键的一步。这个技术含量极高，研发投入也大，技术门槛非常高。
4月上旬，全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E，该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径，旨在满足未来几年对于尖端技术芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸节点。
分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标，其中，分辨率直接决定制程，极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求，是光刻机最重要的指标，而套刻精度影响良率，产率影响光刻机的产能及经济性，此外，多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程，应用较为广泛。
市场机构对芯片板块前景仍然非常看好。7月17日，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布了符合市场预期的二季度报告，但对三季度的业绩指引则不乐观。当天，ASML在伦敦交易所的股价大幅下跌。在美股上市的盘前交易同样下跌，拖累芯片板块集体下跌。
