【日本首台ASML EUV光刻机下月中旬运抵 用于Rapidus晶圆厂试产】《科创板日报》15日讯,日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场,这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。
1956年全国召开知识分子问题会议,主席提出向科学进军的号召,成立国家科学规划委员会,制定了“十二年科技规划”,并确定以下紧急措施:即大力发展计算技术、无线电电子学、半导体技术、自动学和远距离操纵技术。