前阵子新能源正前方覆盖了拓荆科技，看好公司未来的长远发展，不仅仅是因为公司深度受益于国产替代，还有广阔的发展空间，更是因为从设备厂商的成长路径来看，只要公司在薄膜沉积这个环节继续高筑墙广积粮，做到称王的那一天，它完全可以依托于薄膜沉积设备环节的优势轻松向其他环节乃至其他产业设备环节拓展，成为综合设备平台企业。
拓荆科技股份有限公司（拓荆科技，688072.SH）最新披露的投资者关系活动记录表显示，公司及相关子公司本次被列入“实体清单”不会对其日常经营产生实质性影响。公司搭建了稳定供应链体系，能够确保公司经营业务的安全性及完整性。
公司董事长吕光泉先生为美 国加州大学圣地亚哥分校博士，曾任美国科学基金会尖端电子材料研究中心电子材 料副研究员，曾就职于美国诺发和德国爱思强，历任高级工程师、研发部经理和工 程技术副总裁等职，成功领导团队完成了 ALD 和介质薄膜先进工艺相关的国家级 课题，实现了1x nm 3D NAND PECVD、ALD和SACVD 设备的研发及产业化应用。
