公司与全球光刻机巨头建立了紧密的合作关系，自 2006 年开始建立合作，2010 年产品导入量产，与其签订框架性合同的同时建立了 MEMS 芯片代工生产、从 6 英寸转移到8 英寸的技术开发订单，成为该公司高端光刻机微镜的主要供应商。
表面等离子体 光刻的原理是当一束光射向介质 – 金属表面时， 金属表面的自由电子发生运动并产生表面感应电荷. 这些感应电荷在外加场的驱动下在表面不断振荡， 产生特殊的电磁波 ， 随着离开物质表面距离的增大迅速衰减. 表面等离子体波的波长被极大地压缩，而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数. 因此， 利用表面等离子体波进行光刻时， 在极短的距离内 不受传统衍射极限的限制.
1956年全国召开知识分子问题会议，主席提出向科学进军的号召，成立国家科学规划委员会，制定了“十二年科技规划”，并确定以下紧急措施:即大力发展计算技术、无线电电子学、半导体技术、自动学和远距离操纵技术。
全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
然而，随着2024年9月工信部发布的一份文件，将国产光刻机再次推入了公众视野，特别是其中提到的氟化氩光刻机，其技术指标显示分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，这一消息无疑为国产光刻机的发展注入了一剂强心针。
