中国光刻机三种路线

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中国半导体突围战：绕开荷兰光刻机的三条“超车赛道”
荷兰ASML的EUV光刻机使用13.5nm极紫外光，而中国当前国产光刻机却仍停留在氟化氩光源的193nm波长。
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2025年中国光刻机行业分类、相关政策及产业链结构
芯片生产主要包括沉积、光刻、蚀刻等7个步骤，其中光刻为核心步骤之一，主要负责把芯片设计图案通过光学显影技术转移到芯片表面，进而实现在半导体晶片表面上制造微小结构。
华经情报网
如果有一天，我们搞定了EUV光刻机，领先世界20年，请你不要惊讶
但要明确一点，中国并非无法制造光刻机，而是与最先进技术存在差距。因此，面对的问题不是从零到一，而是从90到100，这是一项巨大的挑战。
实在里
国产替代进程加速：光刻机产业突围背后的中国方案
2025年3月，中国半导体行业迎来里程碑式突破——上海微电子“先进封装光刻机产业化项目”环评正式获批，预计新增100台高端光刻机产能。
水东揭秘
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2023年中国将造出EUV光刻机？三年之期将至，我们的进度还好吗？
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