光刻机中的lens是啥

资讯

光刻机产业专题报告：光刻机市场迎国产化机遇
公司与全球光刻机巨头建立了紧密的合作关系，自 2006 年开始建立合作，2010 年产品导入量产，与其签订框架性合同的同时建立了 MEMS 芯片代工生产、从 6 英寸转移到8 英寸的技术开发订单，成为该公司高端光刻机微镜的主要供应商。
未来智库
24评论
连续参展进博会，光刻机巨头ASML：支持中国集成电路增长需求
11月7日，荷兰光刻机巨头ASML在第五届进博会上接受观察者网采访时表示，ASML抱着开放合作的态度多次参与进博会，今年是该公司第四次参加进博会。
观察者网
20评论
半导体设备-光刻机
失效分析赵工半导体工程师 2023-03-20 08:46 发表于北京。光刻机主要分为两类:DUV深紫外线光刻机和EUV及紫外线光刻机。
芯片失效分析
3评论
聊聊光刻机
2022年7月，据美国彭博社报道，美方知情人士透露，美国在向荷兰政府施压，要求该国的半导体制造商阿斯麦公司禁止对华出口生产全球大量芯片所需的主流技术。
中关村硬创空间
8评论

视频

在线举报