编者按:工业和信息化部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录》中，赫然列入了国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机，这一消息迅速引发关注，将国产光刻机技术推至聚光灯下，65nm，这串数字背后蕴藏着怎样的突破?
事情是这样的，荷兰政府前段时间突然宣布，要限制某种高科技设备的出口，这设备可不简单，它叫光刻机，是制造芯片的核心工具，没有它，再牛的芯片设计也造不出来，而荷兰在这方面可是妥妥的“大佬”，全球大部分高端光刻机都得从他们那儿进口。
截至2025年3月，中国光刻机研发在技术突破、产业链协同和政策支持等方面取得一定进展，但在高端光刻机领域仍面临显著挑战。一、成熟制程（DUV光刻机）的国产化进展1. 28nm DUV光刻机实现突破中国已成功研发出28nm工艺的深紫外（DUV）光刻机，并进入小规模量产阶段。
全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
