也许你现在用的电脑，所用芯片的工艺还是14纳米，但是现在的芯片制造工艺，已经推进到了3纳米。而且，芯片工艺的推进速度，还没有看到减慢的迹象，例如台积电近日就宣布，其3纳米研发团队，开始向1.4纳米进发。
2021年，在中国企业未来发展论坛中，北京大学国家发展研究院名誉院长林毅夫先生就引用光刻机的巨头荷兰阿斯迈CEO的话，预测中国将在三年后造出一台EUV光刻机，而今2023年，离林毅夫先生提出的三年之期只剩下不到一年时间，期限已至，我国的光刻机制造进度究竟如何?
9月9日，工信部网站发布了一条消息，虽然看起来很普通，但它就像一颗深水炸弹，让全球半导体行业都炸开了锅。最新发布的“重大技术装备推广应用指导目录”里，出现了“氟化氩光刻机”这个名字，而且明明白白地写着：“这是我们自主研发的，从无到有，实现了一项重大突破！
