相信大家也知道，ASML生产的EUV光刻机，一直无法对我们发货，这是因为美国的干预，然而可能大家不知道的是，ASML的EUV光刻机，在最关键的EUV光源上，其实采用的是美国cymer公司的产品，而且过半的零部件也是来自美国。
此前，武汉明院士在国际数科大会上，发表了自己关于中国制造光刻机的看法，他认为，如今世界最先进的EUV光刻机，不是中国能够凭借一己之力造出来的，为什么吴院士这样认为呢，因为，在一台光刻机中，拥有10万个精密零件，仅仅是其中的供应商就超过了5000家，而且遍及全球各国，现在荷兰的ASML公司所制造的EUV光刻机，也是欧美国家智慧的结晶，因此，吴院士认为，中国想靠自己研发出EUV光刻机不现实。
前段时间，南京大学陆海和张荣教授团队在前期研究基础上，创新设计出一种表面梯度掺杂诱导δn-i-p超浅结SiC二极管，并通过开发选区刻蚀、高温氧化修复与低温金属化工艺，成功实现了国际首支宽禁带半导体pn结型EUV探测器。
由于众所周知的原因，我国进入现代科技领域的时间较晚，整体水平与西方发达国家存在一定的差距，国内不少企业为了快速提升品牌知名度，提高市场份额，就将主要精力放在了轻资产行业的发展上，忽视了发展重资产行业的重要性。
2021年，在中国企业未来发展论坛中，北京大学国家发展研究院名誉院长林毅夫先生就引用光刻机的巨头荷兰阿斯迈CEO的话，预测中国将在三年后造出一台EUV光刻机，而今2023年，离林毅夫先生提出的三年之期只剩下不到一年时间，期限已至，我国的光刻机制造进度究竟如何?
中美冲突加剧，美国执意对中国“卡脖子”，技术突破刻不容缓，当前我国国产EUV光刻机进展如何?由于目前与国际领先水平相差较大的国内技术，以及其在高科技领域的重要战略地位，光刻机是当下国内最受关注的半导体设备，同时该领域也是受到美国技术封锁的重要领域。
9月9日，工信部网站发布了一条消息，虽然看起来很普通，但它就像一颗深水炸弹，让全球半导体行业都炸开了锅。最新发布的“重大技术装备推广应用指导目录”里，出现了“氟化氩光刻机”这个名字，而且明明白白地写着：“这是我们自主研发的，从无到有，实现了一项重大突破！
