工信部最新发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录》中提到了两款国产光刻机的技术参数，其中，氟化氩光刻机的套刻精度可达≤8nm，这一数据立即在网络上引起了轩然大波，许多人欣喜若狂，认为中国已经实现了8纳米制程的光刻机自主制造。
全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
从精致小巧的智能手表，到性能强劲的超级计算机，芯片如同跳动的心脏，驱动着科技的每一次进步，它看似微不足道，却掌控着信息时代的脉搏，而在这方寸之间，蕴藏着人类智慧的结晶，也浓缩着无数科研人员的心血，而要制造出这些精密的芯片，离不开一项关键技术——光刻，如果将芯片制造比作建造一座宏伟的城市，那么光刻机就是那支精密的刻刀，在纳米级的尺度上雕琢着电路的纹理。
今天说一个好消息，中国的光刻机已经生产出来了。中国工信部的目录中公布了深蓝外光刻机，它加工的芯片尺寸小于等于八纳米。这尺寸就表明它应是最高端的光刻机了。其研究出来的速度超出所有人意料，也超出我意料。我原预判还得两三年，没想到现在就已成功。
据媒体报道，上海微电子装备股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机，虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机的飞跃进步，在逐渐减少与荷兰ASML公司差距。
我国光刻机一项核心技术已实现重大突破，这一突破，有望在光刻机技术上打破荷兰的垄断!此前《一网荷兰》曾发文称，光刻机设备供应商ASML在举行电话会议时，其总裁Peter Wennink在会议上明确表示:高端的极紫光光刻机永远不可能被中国模仿，况且中国在知识产权领域有良好的规定。
近日，国内高科技领域又传来了振奋人心的消息，国产首台光刻机即将交付。作为半导体产业不可或缺的核心设备，光刻机的研发和生产一直以来都被国内企业视为重中之重，因此这一官宣消息引发了广泛的关注和期待。光刻机作为半导体芯片制造中的“大脑”，其重要性不言而喻。
众所周知，台积电作为全球最大的芯片代工厂，已将全球半数的芯片产能牢牢掌握在手中。根据台积电公布的2021年财报数据，台积电营收568.2 亿美元，同比增长24.9%，毛利超过50%，已成为亚洲最值钱的公司。
