导语: 向全世界宣布!富春江畔的浙江省投资50亿建设光刻机工厂，这正式宣布这是中国要拥有自己的光刻机产业。这项投资也昭示着我国在半导体领域正在迎头赶上，向国外展示出我们不甘落后的决心。尽管国外依旧是光刻机行业的主力军，但是“中国制造”正在崛起，就连ASML也开始慌了。
在新时代的浪潮中，中国的科技发展犹如破竹之势，尤其是在半导体领域，众所周知，光刻机是制造芯片的核心设备，相当于很多电子产品的“心脏”，只有掌握了这一技术，才能在国际市场上拥有话语权，历来被西方国家垄断的光刻机行业，这回却看到了中国的曙光。
新华社成都11月29日电（记者董瑞丰、吴晓颖）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
