光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
“中国是全世界唯一能独立制造光刻机的国家，可笑的是，这还是在美国风suo下取得的成就”这一登场，可不得了，直接在半导体界投下了一颗震撼弹，不鸣则已，一鸣惊人”，咱中国这一出手，那可真是让全球科技大佬们都坐不住了。
