编者按:工业和信息化部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录》中，赫然列入了国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机，这一消息迅速引发关注，将国产光刻机技术推至聚光灯下，65nm，这串数字背后蕴藏着怎样的突破?
光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
