12月26日消息，硅基世界获悉，据荷兰《新鹿特丹报》，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯日前表示，由于美国对华禁止出口EUV光刻设备，与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，中国芯片技术将落后西方10年或15年，主要还是因为美国禁止出口EUV设备，导致中国无法获得尖端光刻机。
中美冲突加剧，美国执意对中国“卡脖子”，技术突破刻不容缓，当前我国国产EUV光刻机进展如何?由于目前与国际领先水平相差较大的国内技术，以及其在高科技领域的重要战略地位，光刻机是当下国内最受关注的半导体设备，同时该领域也是受到美国技术封锁的重要领域。
美日荷签了协议对中国半导体设备的限制升级，很快有了小道消息，说美国将对华为的制裁再度升级，几乎到了“赶尽杀绝”的程度，但是在自媒体平台中还能看到“国赢惨、美输哭”之类的内容，我觉得这是一个值得警惕的现象。基于此，在谈中美科技竞争之前，我先聊聊一个问题：中美的科技差距究竟有多大？
就在全球还在关注硅基芯片的先进工艺研发之时，中国和美国已在新芯片技术上展开较量，那就是量子芯片，量子芯片技术已被成为是取代现有硅基芯片的先进芯片技术，将突破摩尔定律的极限，同时也将大幅提升芯片的性能并降低功耗。
国产光刻机的好消息就像一阵及时雨，给咱们国家的科技圈带来了久违的喜悦，朋友圈里，各种科普文章、激动评论满天飞，仿佛我们已经站在了芯片制造的巅峰，俯瞰全球，确实，看到咱们自主研发的光刻机取得突破，谁心里不感到自豪呢?
（注:纯属荒诞设定只为科学推演的参考比较）假如有一天荷兰突然断供了全世界高性能光刻机，与此同时之前卖出去的高性能光刻机也突然穿越空间又回到了荷兰，荷兰还把钱退了说这种小国就能造出来的东西我没有脸面玩几乎绝对的垄断我希望世界各国能摆脱对我依赖所以断供，那么假若在美国不用军事威胁和经
