1月22日消息，据彭博社援引中国海关数据汇总显示，2023年，中国大陆用于芯片制造的半导体设备的进口总额达到了接近400亿美元，同比增长了14%，这也是自2015年有记录以来的第二大进口额，反应了中国积极发展半导体制造业的努力。
据媒体报道，上海微电子装备股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机，虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机的飞跃进步，在逐渐减少与荷兰ASML公司差距。
中新社北京9月18日电 (记者 陈康亮)中国A股光刻机板块18日(周三)表现亮眼，涨幅居前。根据金融数据服务商同花顺的数据，当天光刻机概念板块上涨5.35%，领涨A股所有概念板块。个股方面，同飞股份、波长光电录得20%的涨幅，新莱应材、蓝英装备、海立股份等股价均涨逾9%。
我国光刻机一项核心技术已实现重大突破，这一突破，有望在光刻机技术上打破荷兰的垄断!此前《一网荷兰》曾发文称，光刻机设备供应商ASML在举行电话会议时，其总裁Peter Wennink在会议上明确表示:高端的极紫光光刻机永远不可能被中国模仿，况且中国在知识产权领域有良好的规定。
