拓荆科技(688072)1月20日晚披露2024年年度业绩预告，经财务部门初步测算，预计公司2024年年度实现营业收入40亿元至42亿元，与上年同期相比增加12.95亿元至14.95亿元，同比增长47.88%至55.27%。
本报记者 李勇9月25日，拓荆科技董事长吕光泉在公司2023年半年度业绩说明会上回复投资者提问时表示，公司一直在半导体高端薄膜沉积设备领域深耕，坚持自主创新，持续保持高强度的研发投入，不断优化设备产品的性能。
对此，在业绩会上，吕光泉解释，公司研发投入占比从2021年的38.04%减少至2022年的22.21%，主要是公司2022年公司的收入规模在迅速扩大，绝对值在增加，研发投入金额保持稳定的情况下，导致研发投入占比的增速有所放缓。
在芯片制造行业，有一种设备和光刻机同样重要，那就是薄膜沉积设备。近年来，沈阳拓荆科技有限公司(以下简称拓荆科技)凭借PECVD、ALD等一系列先进的半导体薄膜沉积设备，成为国内该领域的领头羊，引领行业快速发展。
公司成立于 2010 年，多次承担国家重大专项并获“中国半导体设备五强企业”称 号，2011 年首台 12 英寸 PECVD 到中芯国际验证，2013 年 PF-300T 产品线通过测 试，2014 年获得首批订单，2016 年首台 ALD 设备和 8 寸 PECVD 交付客户，2018 年 ALD 通过客户 14nm 产业化验证，2019 年 SACVD 研制成功并出厂到客户端， 2022 年 4 月，在科创板上市。
拓荆科技 视觉中国 资料图1月29日，国内半导体专用设备厂商拓荆科技股份有限公司（下称“拓荆科技”，688072）公告披露2022年年度业绩，经财务部门初步测算，预计公司2022年年度实现营业收入16.50亿元至17.20亿元，与上年同期相比（同比）增加 8.92亿元至9.
公司董事长吕光泉先生为美 国加州大学圣地亚哥分校博士，曾任美国科学基金会尖端电子材料研究中心电子材 料副研究员，曾就职于美国诺发和德国爱思强，历任高级工程师、研发部经理和工 程技术副总裁等职，成功领导团队完成了 ALD 和介质薄膜先进工艺相关的国家级 课题，实现了1x nm 3D NAND PECVD、ALD和SACVD 设备的研发及产业化应用。
国内缺芯潮下，国内包括半导体专用设备制造商等产业链公司备受市场关注。据拓荆科技股份有限公司（下称“拓荆科技”，688072）最新公告显示，在过去的2月，超过260家机构参与了该公司的投资者交流活动。公司董事长吕光泉、董事会秘书赵曦等人参与了接待。
“截至2024年半年度末，公司累计出货超过1940个反应腔，预计2024年全年出货超过1000个反应腔，将创历史新高。”9月25日，拓荆科技(688072)董秘赵曦告诉证券时报记者，截至2024年第二季度末，拓荆科技发出商品余额31.62亿元，较2023年末发出商品余额19.
