拓荆科技(688072)1月20日晚披露2024年年度业绩预告,经财务部门初步测算,预计公司2024年年度实现营业收入40亿元至42亿元,与上年同期相比增加12.95亿元至14.95亿元,同比增长47.88%至55.27%。
本报记者 李勇9月25日,拓荆科技董事长吕光泉在公司2023年半年度业绩说明会上回复投资者提问时表示,公司一直在半导体高端薄膜沉积设备领域深耕,坚持自主创新,持续保持高强度的研发投入,不断优化设备产品的性能。
对此,在业绩会上,吕光泉解释,公司研发投入占比从2021年的38.04%减少至2022年的22.21%,主要是公司2022年公司的收入规模在迅速扩大,绝对值在增加,研发投入金额保持稳定的情况下,导致研发投入占比的增速有所放缓。
在芯片制造行业,有一种设备和光刻机同样重要,那就是薄膜沉积设备。近年来,沈阳拓荆科技有限公司(以下简称拓荆科技)凭借PECVD、ALD等一系列先进的半导体薄膜沉积设备,成为国内该领域的领头羊,引领行业快速发展。
公司成立于 2010 年,多次承担国家重大专项并获“中国半导体设备五强企业”称 号,2011 年首台 12 英寸 PECVD 到中芯国际验证,2013 年 PF-300T 产品线通过测 试,2014 年获得首批订单,2016 年首台 ALD 设备和 8 寸 PECVD 交付客户,2018 年 ALD 通过客户 14nm 产业化验证,2019 年 SACVD 研制成功并出厂到客户端, 2022 年 4 月,在科创板上市。
拓荆科技 视觉中国 资料图1月29日,国内半导体专用设备厂商拓荆科技股份有限公司(下称“拓荆科技”,688072)公告披露2022年年度业绩,经财务部门初步测算,预计公司2022年年度实现营业收入16.50亿元至17.20亿元,与上年同期相比(同比)增加 8.92亿元至9.
公司董事长吕光泉先生为美 国加州大学圣地亚哥分校博士,曾任美国科学基金会尖端电子材料研究中心电子材 料副研究员,曾就职于美国诺发和德国爱思强,历任高级工程师、研发部经理和工 程技术副总裁等职,成功领导团队完成了 ALD 和介质薄膜先进工艺相关的国家级 课题,实现了1x nm 3D NAND PECVD、ALD和SACVD 设备的研发及产业化应用。
国内缺芯潮下,国内包括半导体专用设备制造商等产业链公司备受市场关注。据拓荆科技股份有限公司(下称“拓荆科技”,688072)最新公告显示,在过去的2月,超过260家机构参与了该公司的投资者交流活动。公司董事长吕光泉、董事会秘书赵曦等人参与了接待。
“截至2024年半年度末,公司累计出货超过1940个反应腔,预计2024年全年出货超过1000个反应腔,将创历史新高。”9月25日,拓荆科技(688072)董秘赵曦告诉证券时报记者,截至2024年第二季度末,拓荆科技发出商品余额31.62亿元,较2023年末发出商品余额19.