在今年的半导体行业大会Semicon China同期举办的IC产业链国际论坛-制造设备与制程分论坛上,半导体设备厂商新凯来高管分享了半导体工艺装备的机遇挑战,新凯来正在利用多重图形曝光等技术提升芯片制造工艺。
3月26日-27日,深圳新凯来工业机器有限公司在SEMICON China 2025上发布了5款工艺设备新品,包括外延沉积设备EPI、原子层沉积设备ALD、物理气相沉积设备PVD、刻蚀设备ETCH、薄膜沉积设备CVD。