每经记者：朱成祥 每经编辑：梁枭9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。
开源证券近日发布机械设备行业周报：科技自立打头阵，重视光刻机产业链国产化机遇。 以下为研究报告摘要： 光刻机：推动芯片晶体管尺寸微细化发展的核心设备光刻是芯片制造流程中极为重要、难度极高的关键步骤。光刻的过程就是光透过掩膜版成像在晶圆表面的光刻胶上，一片晶圆可曝光多达百个单元。
