光刻胶是集成电路晶圆生产的重要物料，国产替代备受关注。6月20日，在光刻胶领域取得进展的南大光电(300346)获得数十家机构的联合调研。南大光电在调研记录中称，公司在光刻胶技术研发方面，始终坚持从原材料到产品的完全自主化。
最近国内光刻胶领域可谓是好事连连。市场方面，南大光电、彤程新材实现了ArF光刻胶的量产，不少相关公司股价也是接连上涨。技术上，华中科技大学与湖北九峰山实验室共同研究的新型光刻胶技术成功为我国EUV光刻胶的开发奠定了技术基础，这也间接推动了我国芯片产业的发展。
