在今年的半导体行业大会Semicon China同期举办的IC产业链国际论坛-制造设备与制程分论坛上，半导体设备厂商新凯来高管分享了半导体工艺装备的机遇挑战，新凯来正在利用多重图形曝光等技术提升芯片制造工艺。
3月26日-27日，深圳新凯来工业机器有限公司在SEMICON China 2025上发布了5款工艺设备新品，包括外延沉积设备EPI、原子层沉积设备ALD、物理气相沉积设备PVD、刻蚀设备ETCH、薄膜沉积设备CVD。
每经记者：朱成祥 每经编辑：梁枭3月27日，在SEMICON China 2025展会现场，深圳新凯来工业机器有限公司（以下简称新凯来）的展位颇受关注。这家半导体装备厂商覆盖半导体制造多个核心流程的工艺装备、量检测装备矩阵。
在全球半导体产业巨变中，中国正突破量检测装备“卡脖子”难题——新凯来3年攻克13类关键产品，核心零部件100%国产化。VLSI Research 携手 QY Research 的联合研究数据显示，该行业的 CR5 指数高达 82%。
