众所周知，光刻技术是现代半导体制造的核心，直接决定了芯片的性能、尺寸和成本。不过，近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻以及中国通过激光驱动等离子体技术挑战ASML的新闻，并在业内再次引发了光刻机之争。
公司与全球光刻机巨头建立了紧密的合作关系，自 2006 年开始建立合作，2010 年产品导入量产，与其签订框架性合同的同时建立了 MEMS 芯片代工生产、从 6 英寸转移到8 英寸的技术开发订单，成为该公司高端光刻机微镜的主要供应商。
