光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
在新时代的浪潮中，中国的科技发展犹如破竹之势，尤其是在半导体领域，众所周知，光刻机是制造芯片的核心设备，相当于很多电子产品的“心脏”，只有掌握了这一技术，才能在国际市场上拥有话语权，历来被西方国家垄断的光刻机行业，这回却看到了中国的曙光。
