近日，国内高科技领域又传来了振奋人心的消息，国产首台光刻机即将交付。作为半导体产业不可或缺的核心设备，光刻机的研发和生产一直以来都被国内企业视为重中之重，因此这一官宣消息引发了广泛的关注和期待。光刻机作为半导体芯片制造中的“大脑”，其重要性不言而喻。
4月16日，国内首台大芯片先进封装专用光刻机在广州市某集成技术有限公司举行交付入厂仪式。该光刻机由广东某科技装备有限公司自主研制，可以为Chiplet和2.5D/3D大芯片的集成制造提供光刻加工工艺，为助力国产人工智能大芯片集各种功能芯片之大成提供了有力的技术支撑。
上微公司是国内唯一从事研发、生产以及销售高端光刻机的公司，也是全球第四家生产IC前道光刻机的公司，公司在终端后道封装光刻机和LED光刻机领域技术领先，国内市场占有率高达80%、全球市场占有率达40%，LED光刻机市场占有率第一。
光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
