由于 ALD 设备 可以实现高深宽比、极窄沟槽开口的优异台阶覆盖率及精确薄膜厚度控制，实现 了芯片制造工艺中关键尺寸的精度控制，在结构复杂、薄膜厚度要求精准的先进 逻辑芯片、DRAM 和 3D NAND 制造中，ALD 是必不可少的核心设备之一。
拓荆科技(688072)1月20日晚披露2024年年度业绩预告，经财务部门初步测算，预计公司2024年年度实现营业收入40亿元至42亿元，与上年同期相比增加12.95亿元至14.95亿元，同比增长47.88%至55.27%。
证券时报记者 孙宪超拓荆科技（688072）2月27日晚披露2024年度业绩快报，2024年度公司实现营业收入41.03亿元，同比增长51.7%；净利润6.88亿元，同比增长3.91%；扣非净利润3.56亿元，同比增长14.2%。
在芯片制造行业，有一种设备和光刻机同样重要，那就是薄膜沉积设备。近年来，沈阳拓荆科技有限公司(以下简称拓荆科技)凭借PECVD、ALD等一系列先进的半导体薄膜沉积设备，成为国内该领域的领头羊，引领行业快速发展。
本报记者 李勇“公司的反应腔产品，2024年上半年出货量超过430个，截至2024年6月底，出货量已累计超过1940个，预计今年全年出货量将超1000个，有望创下历史新高。”拓荆科技相关负责人在接受《证券日报》记者采访时表示。
拓荆科技(688072)6月18日召开2023年度暨2024年第一季度业绩暨现金分红说明会，公司董事长吕光泉，董事、总经理刘静等在信息披露允许的范围内就投资者普遍关注的问题进行回答。拓荆科技是国内专用量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD及键合设备的领军企业。
7月19日，国内薄膜沉积行业领军者拓荆科技发布公告称，公司股东嘉兴君励投资合伙企业及其一致行动人盐城经济技术开发区燕舞半导体产业基金拟通过询价转让的方式清仓其持有的177万股公司股份，本次减持前这两家股东合计持有的股份占公司总股本的1.4%。
本报讯 （记者李勇）3月26日，拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”）在SEMICONChina2025展会首日隆重召开主题为“拓芯章·见未来”的新品发布会，集中发布ALD系列、3D-IC及先进封装系列，CVD系列新品，全面展现其在半导体薄膜沉积及先进封装领域的技术突破与产
拓荆科技(688072)1月30日晚间发布公告称，公司董事长吕光泉先生提议公司通过上海证券交易所股票交易系统以集中竞价交易方式回购公司已发行的部分人民币普通股（A股）股份。本次回购资金总额不低于人民币1.2亿元（含），不超过人民币约1.97亿元（含）。
