3月19日，中微公司董事长、总经理尹志尧3月19日在2023年度业绩说明会上表示，在逻辑集成电路制造环节，公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线上并用于5纳米、5纳米以下器件中若干关键步骤的加工；同时，公司根据先进集成电路厂商的需求持续进行设备开发和工艺
人民财讯3月26日电，近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”）宣布通过不断提升反应台之间气体控制的精度，ICP双反应台刻蚀机Primo Twin-Star®又取得新的突破，反应台之间的刻蚀精度已达到0.2A（亚埃级）。
每经AI快讯，3月26日，据中微公司官微消息，近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司宣布通过不断提升反应台之间气体控制的精度，ICP双反应台刻蚀机Primo Twin-Star®又取得新的突破，反应台之间的刻蚀精度已达到0.2A（亚埃级）。
本报讯 （记者孙文青）3月12日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布，等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台，包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。
本报记者 孙文青8月22日晚间，国内半导体设备企业中微公司披露了2024年上半年业绩报告。随着公司多款半导体设备在国内外销售，报告期内，公司实现营业收入34.48亿元，同比增长36.46%；归母扣非净利润约4.83亿元，同比减少约6.88%。
每经记者：朱成祥 每经编辑：董兴生8月23日上午，中微公司（688012.SH，股价131.01元，市值813.97亿元）股价走低，跌幅一度超过10%。午后略有回升，至收盘报131.01元/股，下跌5.61%。而在当日午间，中微公司披露了公司订单和经营等情况。
