3月26日-27日，深圳新凯来工业机器有限公司在SEMICON China 2025上发布了5款工艺设备新品，包括外延沉积设备EPI、原子层沉积设备ALD、物理气相沉积设备PVD、刻蚀设备ETCH、薄膜沉积设备CVD。
据媒体报道，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机最近经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。刻蚀机是芯片制造的关键装备之一，业内预计，中微已通过验证的国产5纳米刻蚀机，会获得比7纳米生产线更大的市场份额，相关公司有望受益。
