5纳米光刻机研发成功

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弯道超车！中科院在5nm光刻机技术获重大突破
随着华为禁令的出台，国内很多企业意识到了技术的重要性，尤其是被西方垄断的技术。为了更好的发展，这些技术必须实现突破。
IT绿灯侠
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华为有救了？中科院的5nm光刻技术，并不是你想的那样
大家都知道，一款5nm芯片想实现量产最重要的有两个点:设计和制造。就设计而言，其实已经有不少厂商能够做到，但苦于没有制造能力，只能寻求供应商。
找靓机
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中国光刻技术新突破，国产5nm芯片有望实现
文｜默默编辑｜大熊频道“大鹏一日乘风起，扶摇直上九万里。”近期，英国《金融时报》消息，由华为海思设计，中国大陆企业生产的5nm手机芯片最快将于今年推向市场。都说7nm以下的手机芯片必须依靠EUV光刻机，但问题是至今没有我国已经买到EUV光刻机的消息，5nm芯片又从何而来？
蒋@kerry
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说实话，用DUV光刻机，确实能制造5nm芯片，但我们不会这么干
最近有人在网上瞎嚷嚷，说用DUV光刻机也能造5nm芯片，气得我差点没把键盘砸了!你们是不是以为，有了DUV光刻机，再来个多重曝光，就能搞定5nm芯片了?
我叫汀汀甜
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从7nm到5nm：国产光刻机的突破，从告别自嗨开始
日前，光刻机市场有两个新的动向，一个是哈尔滨工业大学公布了一项“高速超精密激光干涉仪”研发成果，并获得了首届“金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖，被一些人宣称解决了7nm以下的光刻机难题。
芯片界的小学生
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尼康浸润式光刻机上新：效率提升15%，支持5nm芯片，不能卖给中国
众所周知，在没有进入浸润式光刻机技术之前，当时光刻机技术是采用193nm波长的光源，生产普通的ArF光刻机，最多支持到65nm工艺的芯片。当时尼康、佳能才是光刻机老大，ASML只是一家小企业，完全不具备竞争力。
互联网乱侃秀
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