至于文章内容，前一半分析了目前EUV光刻机供需格局，核心信息在中国读者看来都算是大路货，后一半则是梳理了俄罗斯研究人员在EUV光源和反射镜上的积累，作者据此认为，俄罗斯可以直接跳过浸没式DUV光刻机，一步到位攻关EUV光刻机:“与中国不同的是，我们拥有成为世界第二大超现代极紫外线光刻机制造商所需的一切”。
第一台俄罗斯国产光刻机问世，2024年，350纳米!这种芯片是用在国防，导弹或者军事上的，他们只需要简单稳定就可以，不追求几个亿晶体管，况且有个开始总是好的，谁也不是一口吃成个胖子，俄罗斯本来在芯片上就是弱项。
俄罗斯已经开启了逆风翻盘模式，当西方国家对他进行全方面制裁的时候，俄罗斯近日传出了一个好消息，那就是他们国内第一台光刻机已经成功制造了出来，这一台光刻机能够生产的芯片，是350纳米工艺的，现在已经对其进行测试了，当这台光刻机出来后没多久，俄罗斯又把自己接下来的举动给公布了出来，那就是想要把130纳米工艺的光刻机给制造出来，现在很多国家都已经研究五纳米的光刻机了，为何俄罗斯研究的光刻机和其他国家来说，差距如此之大?
