3月26日-27日，深圳新凯来工业机器有限公司在SEMICON China 2025上发布了5款工艺设备新品，包括外延沉积设备EPI、原子层沉积设备ALD、物理气相沉积设备PVD、刻蚀设备ETCH、薄膜沉积设备CVD。
Ausip T830 设备实现了 30 余项关键技术的突破，其电镀膜厚均匀性达到客户标准，对于孔直径在 2 - 12 微米、孔深 16 - 120 微米的多种孔型产品，能够实现有效填充。本期通过对“新凯来”相关概念进行了梳理，筛选出7家值得关注的企业，供大家进一步参考研究。
