湖北日报讯 （记者张真真、通讯员康鹏、王冰倩）10月15日，中国光谷诞生重大科技成果：武汉太紫微光电科技有限公司在全国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方，我国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。该公司新型光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证，即将量产。
通线活动现场。今天，位于宁波前湾新区的宁波冠石半导体光掩模版制造项目通线量产。光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，其功能类似于相机的“底片”。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。
