近期，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员与国家纳米中心刘前研究员合作，在Nano Letters上发表了题为“5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography”的研究论文，报道了一种他们开发的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法。
亚10nm的结构在集成电路、光子芯片、微纳传感、光电芯片、纳米器件等技术领域有应用需求（图1），这对微纳加工的效率和精度提出了新挑战。激光直写作为一种高性价比的光刻技术，可利用连续或脉冲激光在非真空的条件下实现无掩模快速刻写，降低了器件制造成本，是一种有竞争力的加工技术。
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随着第三次科技革命的到来，芯片成为工业制造最高水平的代表，半导体领域成为各国竞争最为激烈的存在。就目前而言，美国占据着国际半导体行业榜首的存在，也正因为此，美国从芯片制造方面出手，想要置华为与死地，从而遏制中国在5G、人工智能等高端领域的发展。
中国什么时候才能造出5nm的光刻机？真的有那么难吗？长见识了光刻机现在已经是很多普通老百姓都知道的"高级"名词，这个复杂的机器现在已经成为了美国恶意制裁中国芯片的武器。我们知道这个世界上很多东西都是集合全球的力量博采众长制造而来的，手机如此、光刻机也是如此。
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今年 7月份，中科院发表的一则《超分辨率激光光刻技术制备5纳米间隙电极和阵列》的研究论文引起了广泛的关注。当时，华为正被美国打压，中国芯片产业成为了国人的心头忧虑。因此，中科院此新闻一出，遭部分媒体夸张、误解之后，立刻引起了一片沸腾。
导读:高精度光刻取得突破，8座芯片厂正在建设，美国打压闹剧该结束了!最近这几十年，中国在科技领域的发展速度十分的迅猛，在国内还涌现出了一大批的科技巨头企业，像华为、阿里巴巴、大疆创新等企业都已经走出了国门，并走向了世界舞台;
