2024年，当中国宣布在DUV光刻机领域取得突破性进展，成功研发出28纳米制程的光刻机时，整个科技界都为之震动，这项被誉为“现代工业皇冠上的明珠”的技术，一直以来都被西方国家牢牢掌握，成为制约中国芯片产业发展的一道难以逾越的鸿沟，如今，中国终于迈出了自主研发光刻机的关键一步，打破了西方的技术封锁，这对于中国乃至全球的科技格局都将产生深远的影响。
各位看官老爷，你们好！这里是充满欢乐和轻松的韵姐观社会频道，恭祝大家龙年大吉，蒸蒸日上，芝麻开花节节高！这真的是一个好消息！值得大家欢呼和庆祝，因为咱们的DUV光刻机研制成功了！这不仅带给我们的是便利，更是自豪！太厉害了！这确实是一个了不起的突破，为科学工作者点赞！
9月9日，工信部网站发布了一条消息，虽然看起来很普通，但它就像一颗深水炸弹，让全球半导体行业都炸开了锅。最新发布的“重大技术装备推广应用指导目录”里，出现了“氟化氩光刻机”这个名字，而且明明白白地写着：“这是我们自主研发的，从无到有，实现了一项重大突破！
当某些人还在质疑“中国到底有没有光刻机”时，国产产业链的齿轮早已悄然转动，而西方舆论的傲慢与偏见，却仍在试图用“看不见就等于不存在”的逻辑，掩盖一个不可逆转的事实——中国正在改写全球半导体产业的游戏规则。
