2024年，当中国宣布在DUV光刻机领域取得突破性进展，成功研发出28纳米制程的光刻机时，整个科技界都为之震动，这项被誉为“现代工业皇冠上的明珠”的技术，一直以来都被西方国家牢牢掌握，成为制约中国芯片产业发展的一道难以逾越的鸿沟，如今，中国终于迈出了自主研发光刻机的关键一步，打破了西方的技术封锁，这对于中国乃至全球的科技格局都将产生深远的影响。
来源：环球时报 【环球时报综合报道】“富士康退出，美光进入。”一些印度媒体对该国半导体行业的发展前景非常乐观，印度古吉拉特邦《镜报》11日报道称，莫迪总理于2014 年启动的“印度制造”旗舰计划旨在将印度转变为与中国竞争的全球制造中心。
9月9日，工信部网站发布了一条消息，虽然看起来很普通，但它就像一颗深水炸弹，让全球半导体行业都炸开了锅。最新发布的“重大技术装备推广应用指导目录”里，出现了“氟化氩光刻机”这个名字，而且明明白白地写着：“这是我们自主研发的，从无到有，实现了一项重大突破！
