截至2月25日收盘，光刻机概念上涨1.64%，位居概念板块涨幅第4，板块内，23股上涨，东方嘉盛涨停，茂莱光学、蓝英装备、百傲化学等涨幅居前，分别上涨13.62%、11.63%、4.66%。跌幅居前的有电科数字、同飞股份、晶方科技等，分别下跌5.11%、4.96%、2.97%。
截至3月27日收盘，光刻机概念上涨4.21%，位居概念板块涨幅第2，板块内，32股上涨，新莱应材20%涨停，凯美特气、海立股份等涨停，芯碁微装、国林科技、富创精密等涨幅居前，分别上涨12.29%、10.14%、9.69%。跌幅居前的有大族激光、电科数字等，分别下跌0.21%、0.
半导体板块31日盘中大幅拉升，截至发稿，新相微20%涨停，富创精密、国民技术涨超18%，裕太微涨超16%，通富微电、金海通等涨停。光刻机概念亦活跃，茂莱光学、炬光科技20%涨停，波长光电涨超10%，奥普光电、永新光学等涨停。
截至10月8日收盘，光刻机概念上涨15.05%，位居概念板块涨幅第9，板块内，30股上涨，新莱应材、赛微电子、炬光科技等20%涨停，海立股份、旭光电子、泰晶科技等涨停，美埃科技、腾景科技、同飞股份等涨幅居前，分别上涨19.63%、18.84%、18.78%。
截至10月31日收盘，光刻机概念上涨5.24%，位居概念板块涨幅第1，板块内，30股上涨，炬光科技、茂莱光学等20%涨停，张江高科、永新光学等涨停，富创精密、波长光电、新莱应材等涨幅居前，分别上涨18.11%、10.73%、8.58%。
