尼康宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，生产效率、套刻精度都会有进一步提升。据悉，尼康这款曝光机采用增强型iAS设计，可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正，重叠精度(MMO)更高，号称不超过2.1纳米。
俄罗斯已经开启了逆风翻盘模式，当西方国家对他进行全方面制裁的时候，俄罗斯近日传出了一个好消息，那就是他们国内第一台光刻机已经成功制造了出来，这一台光刻机能够生产的芯片，是350纳米工艺的，现在已经对其进行测试了，当这台光刻机出来后没多久，俄罗斯又把自己接下来的举动给公布了出来，那就是想要把130纳米工艺的光刻机给制造出来，现在很多国家都已经研究五纳米的光刻机了，为何俄罗斯研究的光刻机和其他国家来说，差距如此之大?
光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。近期，光刻巨头荷兰半导体设备公司阿斯麦首席执行官Peter Wennink表示，今年将按计划在其下一个产品线中推出首款测试工具。
文中加入5秒广告解锁，观看5秒后便可免费阅读全文啦，感谢各位观众老爷的理解与支持文|沈言论文章由沈言论头条原创首发，请勿抄袭转载前段时间，工信部官宣了中国光刻机取得了重大进展。其中主要还是技术层面的突破、核心部件的制造，以及拥有完整的知识产权。
文 | 孙永杰日前，工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下简称“目录”）中显示，中国已攻克氟化氩光刻机，其中该目录中，公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm指标引发了业内的关注。
