光刻机是芯片制造的核心设备，全球能生产该设备的只有四家厂商，我国的上海微电子、日本的尼康、佳能，以及荷兰的ASML，不过，在中高端光刻市场，ASML几乎处于垄断地位，尤其是EUV设备，只有它一家有实力量产。
此前，武汉明院士在国际数科大会上，发表了自己关于中国制造光刻机的看法，他认为，如今世界最先进的EUV光刻机，不是中国能够凭借一己之力造出来的，为什么吴院士这样认为呢，因为，在一台光刻机中，拥有10万个精密零件，仅仅是其中的供应商就超过了5000家，而且遍及全球各国，现在荷兰的ASML公司所制造的EUV光刻机，也是欧美国家智慧的结晶，因此，吴院士认为，中国想靠自己研发出EUV光刻机不现实。
美国对华为的芯片制裁，让我们意识到，在当今这个时代，要想实现技术独立，就必须实现芯片的国产化。然而，目前我们只能独自制造出一些工艺较为落后的芯片，对高端芯片的制造却是束手无策，究其原因，就是EUV光刻机被卡了脖子，所以，EUV光刻机的研制进程牵动了无数国人的心。
由于众所周知的原因，中国的芯片制造业难以获得先进的EUV光刻机，中国的知名院士吴汉明就曾对此表示不用过于着急追赶先进工艺而应聚焦于现有的成熟工艺，基于现有技术开发更符合中国需求的芯片制造技术，如今似乎正在印证这一点。
为了应对老美带来的芯片困境，近几年时间，我国开始大力发展芯片产业，不仅定下了5年实现70%自主率的短期目标， 而且成立了世界上最大的产业基地“东方芯港”，前后两次签约的200多个重点项目，几乎涵盖了工业软件、基础材料、制造设备等半导体产业几乎所有的细分领域。
中科院正式宣布:从2021年到2030年要把美国卡脖子的清单变成科研任务清单进行布局，比如航空轮胎、轴承钢、光刻机，还有一些关键的核心技术、关键原材料等，把中科院未来的目标聚焦在国家最关注的重大的领域，集中全院的力量来做。
