该研究以“Layer-by-Layer Epitaxy of Multilayer MoS2 Wafers”为题发表在《国家科学评论》上，并被香港理工大学柴扬教授在同期Natl Sci Rev 2022: nwac105以“Surface proximity effect enables layer-by-layer growth of MoS2”为题亮点介绍。
